硅片光学元件光电器件软件正反两面超精机基本上先用蜡粘单侧磨光，时候再来无蜡后壳磨光，怎样在磨光进程中最好需四次擦洗，还相关粘蜡、去蜡等工序。

打磨然后的从表面平面度好度好大阶段上受打磨蜡、粘蜡加工工艺横向的干扰，涂蜡的均匀的性对打磨片的平面度好度、翘曲度起着极为重要的干扰。

光学硅片双面抛光机，不仅在抛盘上装有抛光垫，而且在抛头上也装有抛光垫，双垫之间采用游龙盘装载硅晶圆片，抛光液由上盘采用多孔注入方式加至双垫之间。

磁学半导货品单面超精机应用双垫单面打蜡 ，应对了粘蜡、去蜡加工过程技术，较低了清洁工作加工过程流程频率，同时促进了打蜡 片的高低不平机械性能。但双垫双抛加工过程技术中，硅晶圆片只不过被上限于游龙盘的孔内，在孔内得到振动力时可能扭动，合适的相对而言振动功效较低，以致较低了消除效率。

化工反应自动化设备装备镜面抛光是自动化设备装备和化工反应角色的结合效用，过于多元化的增强学习自动化设备装备角色会扩增从漆层损坏，过于多元化的提升 化工反应角色会有效降低从漆层平滑效用。

两者的双方稳定性不单可不不错 保障高磨光传输速率，然而可不不错保持高的磨光外面。相对 双垫双抛技术，与单侧磨光相信，光电器件光电器件护肤品双层超精机选取的磨光高效液相同的情况报告下，在硅晶圆片的可划动性，使人设备振动用途某些减低，得以引响磨光能力。

光学反应半导护肤品单双面超精机可打磨各类：硅片、波璃、蓝月亮石等。